阵列修改器分布方法：栅格

“Grid”分布方法会在 1D、2D 或 3D 栅格图案中创建一组统一的克隆。

“Modify”面板 > 进行选择 >“Modifier List”>“Object-Space Modifiers”>“Array”>“Distribution”卷展栏 >“Grid”
默认菜单：进行选择 >“Modifiers”菜单 >“Parametric Deformers”>“Array”>“Distribution”卷展栏 >“Grid”

“Grid”分布方法会在 1D、2D 或 3D 栅格图案中创建一组统一的克隆。以下示例使用“Grid”分布方法创建一组椅子。有关详细的工作流示例，请参见使用阵列修改器创建一组椅子。

界面

Layout method

用于选择克隆在视口中的排列方式。

注：显示在“Layout method”下拉列表下方的选项会根据您的选择内容动态更新。

Total Dimension: 创建在“Count X”、“Count Y”和“Count Z”参数中定义的克隆数量，并将其放置在指定的“Width”、“Length”和“Height”内。
Relative Offset: （默认）创建在“Count X”、“Count Y”和“Count Z”参数中定义的克隆数量，并相对于源对象的边界框放置它们。; 当 X、Y 或 Z 轴的“Offset”设置为 1.0（默认值）时，每个克隆将彼此相邻放置。
注：如果“Offset”值小于 1.0，则可能导致克隆重叠。如果“Offset”值大于 1.0，会导致克隆之间出现间距。
Fill: 创建填充指定“Width”、“Length”或“Height”所需的克隆数量。在阵列的末尾插入或移除新克隆。
提示：您可以使用“Offset”和“Spacing”参数调整适合填充到指定“Width”、“Length”或“Height”内的克隆数量。

Strength

设置克隆相对于阵列原点的位置。默认值为 100%。

Center

重新定位阵列，使其以原始对象的原点为中心。默认情况下，此参数处于禁用状态。

Dynamic Spacing

仅在使用“Fill”布局方法时可用。

在第一个和最后一个克隆之间插入新克隆，而不是将克隆附加到阵列末端。

Count X、Count Y、Count Z

设置沿局部 X、Y 或 Z 轴放置的克隆数。

Width、Length、Height

设置固定的“Width”、“Length”和“Height”，用于在其中放置克隆。

Offset

以相对克隆尺寸设置到 X、Y 或 Z 轴上下一个克隆的距离。默认值为 1.0。

Spacing

设置 X、Y 或 Z 轴上每个克隆之间的距离。间距以显示单位表示。

提示： “Spacing”参数可以重现“Offset”参数的效果，但在需要某个特定的数值距离时特别有用。

Array By Element

如果源对象具有多个元素，并且启用了此选项，则可以从以下“Array By Element”方法中进行选择，以控制克隆的排列。

Random：每个元素随机用作潜在克隆。在以下示例中，使用 5 (Count X) x 5 (Count Y) x 1 (Count Z)。
提示：此选项可用于创建对象集合，如书架中的书或墙中的砖。
Ordered：元素根据选定方向（X、Y、Z）或克隆 ID 按顺序排列。在以下示例中，茶壶的元素沿 X 轴按顺序显示，在阵列循环切换所有四个元素后重复。将使用 10 (Count X) x 5 (Count Y) x 1 (Count Z) 栅格。
First Middle Last：第一个克隆和最后一个克隆保持不变，其余克隆随机排列。在以下示例中，元素 1 是第一个克隆，元素 2 是最后一个克隆。这些行中的其他克隆沿 X 轴排列。将使用 5 (Count X) x 5 (Count Y) x 1 (Count Z)。
注： “First Middle Last”排列要求对象中至少有四个元素才能提供预期的结果。

Center By