阵列修改器分布方法：径向

径向分布方法会以与 X、Y 或 Z 轴对齐的环形阵列方式创建克隆。

界面

X, Y, Z
在对象空间中沿选定轴确定阵列方向。
Strength
设置克隆相对于阵列原点的位置。默认值为 100%。
Orientation
设置克隆相对于原始对象方向的方向。默认值为 100%。倍增为 100% 时，每个克隆的方向都相对于围绕阵列中心的旋转方向。倍增为 0.0% 时，每个克隆都采用原始对象的方向。介于 0.0% 和 100% 之间的值将每个克隆设置为阵列中旋转的百分比。
Center
重新定位阵列，使其以原始对象的原点为中心。默认情况下，此参数处于禁用状态。
Count
设置阵列中的克隆数量。
Radius
设置阵列的半径（以显示单位表示）。
Absolute Start/End Position
启用后，第一个克隆将定位在指定的起始角度，最后一个克隆将定位在指定的结束角度，其余克隆在两者之间均匀分布。
默认情况下该选项处于禁用状态。
Start Angle
设置阵列的起始位置。默认值为 0.0，默认位置为 12 点钟位置。
End Angle
使用最后一个克隆相对于 12 点钟位置的位置，设置阵列的结束位置。
Rows
设置阵列中的克隆行数。每个附加行都放置在指定的正轴上。
Offset
设置每行之间的距离（以相对克隆尺寸表示）。默认值为 1.0。
Spacing
设置每行之间的距离。间距以显示单位表示。
Stagger
将每个连续行旋转克隆宽度的一半。
注： 仅当阵列中有多个行时，此参数才可用。
Rings
设置相对于第一个环的克隆同心环的数量。
Offset
设置每个环之间的距离（以相对克隆尺寸表示）。默认值为 1.0。
Spacing
设置每个环之间的距离。“Spacing”以显示单位表示。
Equidistant
为每个连续环添加尽可能多的克隆，从而填充由“Offset”和“Spacing”参数定义的区域。
注： 仅当阵列中有多个环时，“Equidistant”才可用。
Stagger
偏移每个连续环，从而创建交错的外观。
注： 每个克隆的确切位置取决于环数，不能保证均匀重叠。
Array By Element
如果源对象具有多个元素，并且启用了此选项，则可以从以下“Array By Element”方法中进行选择，以控制克隆的排列。
  • Random：每个元素随机用作潜在克隆。在以下示例中，使用的参数是“Count”：8 和“Radius”：75.0。
  • Ordered：元素根据选定方向（X、Y、Z）或克隆 ID 按顺序排列。在以下示例中，茶壶的元素沿 X 轴按顺序显示，在阵列循环切换所有四个元素后重复。使用的其他参数是“Count”：8 和“Radius”：75.0。
  • First Middle Last：第一个克隆和最后一个克隆保持不变，其余克隆随机排列。在以下示例中，元素 1 是第一个克隆，元素 2 是最后一个克隆。使用的其他参数是“Count”：8 和“Radius”：75.0。
    注： “First Middle Last”排列要求对象中至少有四个元素才能提供预期的结果。
Center By
启用“Array By Element”时，“Center By”也将启用。
将 X、Y 和/或 Z 轴上每个克隆的轴设置为其中心。可以同时选择多个轴。
当创建由要用作克隆的元素组成的阵列时，这使得沿轴布置各个元素变得容易，这样它们就不需要位于相对于轴的同一位置。禁用后，每个元素使用其相对于源对象轴点的位置。
Seed
为选择要用作克隆的元素设置随机数种子。
Seed Randomization
单击 以随机化种子值。

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