使用陰影，您可以建立具有更大深度和擬真性的彩現影像。
彩現程式可以透過陰影貼圖或光跡追蹤來產生陰影。
陰影貼圖陰影
陰影貼圖提供的邊較柔和，並且需要的計算時間比光跡追蹤陰影要少，但是準確性較低。陰影貼圖是產生具有柔和邊的陰影的唯一方法，但是它們不會展示由透明或半透明物件投射的顏色。
以下範例展示陰影貼圖如何產生較柔和、精確度較低的陰影。
在預先彩現過程中，會建立陰影貼圖點陣圖。您可以透過增加或減少陰影貼圖的大小，來控制陰影品質。預設陰影貼圖大小為 256 x 256 像素。如果顯示的陰影過於粗糙，則增大貼圖大小可改善品質。如果有穿過透明曲面的光線 (例如要投射其框架和豎框陰影的多窗格窗戶)，則不應使用陰影貼圖陰影。若要讓豎框投射陰影，您必須移除玻璃。
光跡追蹤陰影
光跡追蹤會追蹤從光源取樣的光線的路徑。在光線被物件阻擋的位置就會出現陰影。光跡追蹤陰影具有更準確的硬式邊，但需要的計算時間較多。
以下範例會展示，雖然光跡追蹤的處理時間較長，但它會產生更真實、更精確的陰影。
光跡追蹤陰影具有硬式邊與精確外框；它們也可以從透明與半透明物件傳送顏色。因此，將彩現多窗格窗戶的框架和豎框的陰影。由於光跡追蹤陰影是不計算貼圖，因此您不必像處理陰影貼圖陰影那樣調整解析度。
陰影模式
打開陰影後，您可以選取三種陰影模式設定之一。陰影模式可設定為「簡單」、「依類別」或「依區段」。
- 簡單。彩現程式以隨機順序呼叫陰影描影程式。這是陰影的預設模式狀態。
- 依類別。彩現程式依照從物件到光源的順序呼叫陰影描影程式。
- 依區段。彩現程式依照從來自體積描影程式的光源射線至物件和光源之間的光源射線之區段的順序，呼叫陰影描影程式。
顯示陰影
若要在模型中投射陰影，必須建立光源。您需要將光源加入場景，並需要指定該光源是否投射陰影。對於在設置場景時要在視埠中顯示的陰影，您需要打開視覺型式的陰影。如果您希望在彩現影像中顯示陰影，則需要打開陰影並在「進階彩現設定」選項板上選擇要彩現的陰影類型。