阵列修改器分布方法:样条线

样条线分布方法会沿场景中的目标样条线创建克隆。

样条线分布方法会沿场景中的目标样条线创建克隆,并提供控件以将阵列投影到场景中的参考曲面上。以下示例使用样条线分布方法创建链。有关详细的工作流示例,请参见使用阵列修改器创建链

界面

布局方法
用于选择沿目标样条线放置克隆的方法。
注: 显示在“布局方法”下拉列表下方的参数会根据您的选择动态更新。
计数
沿样条线长度分布在“计数 X”和“计数 Y”参数中指定的克隆数。在以下示例中,“计数 X”逐渐增加,直到值达到 8。
相对偏移
从结点开始,沿样条线长度分布固定数量的克隆。在以下示例中,“计数 X”逐渐增加,直到值达到 8。
提示: 如果样条线的厚度为零,请使用“间距”参数设置克隆之间的距离。
填充
沿样条线路径从头到尾分布克隆。
沿目标样条线分布克隆,在每个结上放置一个克隆。选择特定结时,仅在选定结上放置克隆。
分段
沿目标样条线分布克隆,在每个分段上放置一个克隆。选择特定分段后,仅在选定分段上放置克隆。
X/Y/Z
单击按钮可沿对象空间中的选定轴定向阵列。
拾取样条线
从场景中选择参考样条线。克隆采用与参考样条线相同的形状。
提示: 选择目标样条线后,可以通过执行下列操作之一选择其他目标样条线:
  • 在“拾取样条线”上单击鼠标右键,然后选择“清除样条线”
  • 单击“拾取样条线”,然后选择其他目标样条线
强度
设置克隆相对于样条线上第一个结的位置。
保留方向
启用后,克隆将保留原始对象的方向。
中心
重新定位阵列,使其以原始对象的原点为中心。
翻转
沿样条线反转克隆的位置和方向。
计数 X/计数 Y/计数 Z
仅在“布局方法”设置为“计数”或“相对偏移”时,此参数才可用。
设置沿 X/Y/Z 轴放置的克隆数。
偏移
以相对克隆尺寸设置到 X/Y/Z 轴上下一个克隆的距离。
间距
以显示单位设置 X/Y/Z 轴上各个克隆之间的距离。
位置变换方法
继续
在样条线的开始或结束处使用传出向量,并沿同一轨迹继续放置克隆。
循环
(默认)克隆到达样条线路径的末端后,它们将被放回起点,从而形成一个循环。
结束
克隆在第一个克隆的位置相互堆叠。
移除
克隆一旦到达样条线路径的末端就会消失。
百分比
仅在选择“总尺寸”或“填充”布局方法时,此参数才可用。
沿样条线长度设置克隆的位置。
轴向
仅在选择“总尺寸”或“填充”布局方法时,此参数才可用。
设置克隆围绕样条线轴的放置。
变化
仅在选择“总尺寸”或“填充”布局方法时,此参数才可用。
以样条线长度的百分比随机化克隆的位置。
种子
为变化值设置随机数种子。
拾取曲面
用于从场景中拾取要将阵列投影到的参考对象。
注: 投影沿样条线的局部 -Z 轴。
移除未命中的投影
仅在使用“拾取曲面”按钮选择了参考对象时,此参数才可用。
未成功投影到参考曲面的克隆将从场景中移除。
投影前变换
用于在将克隆投影到曲面之前变换克隆的位置。例如,当创建位于不平坦地形上的栅栏立柱阵列时,此选项非常有用。它可以让您随机化立柱的位置,同时确保它们不会移离地形。
方向偏移
仅在使用“拾取曲面”按钮选择了参考对象时,此参数才可用。
设置克隆将曲面用作其方向法线的量。
偏移
仅在使用“拾取曲面”按钮选择了参考对象时,此参数才可用。
设置阵列的宽度。
按元素阵列
如果源对象具有多个元素,并且启用了此选项,则可以从以下“按元素阵列”方法中进行选择,以控制克隆的排列。
  • 随机:每个元素随机用作潜在克隆。在以下示例中,使用的参数是“计数 X”:8。
  • 有序:元素根据选定方向(X、Y、Z)或克隆 ID 按顺序排列。在以下示例中,茶壶的元素沿 X 轴按顺序显示,在阵列循环切换所有四个元素后重复。使用的其他参数是“计数 X”:8。
  • 第一个、中间、最后一个:第一个克隆和最后一个克隆保持不变,其余克隆随机排列。在以下示例中,元素 1 是第一个克隆,元素 2 是最后一个克隆。使用的其他参数是“计数 X”:8。
    注: “第一个、中间、最后一个”排列要求对象中至少有四个元素才能提供预期的结果。
居中方式
启用“按元素阵列”时,“居中方式”也将启用。
将 X、Y 和/或 Z 轴上每个克隆的轴设置为其中心。可以同时选择多个轴。
当创建由要用作克隆的元素组成的阵列时,这使得沿轴布置各个元素变得容易,这样它们就不需要位于相对于轴的同一位置。禁用后,每个元素使用其相对于源对象轴点的位置。
种子
为选择要用作克隆的元素设置随机数种子。
种子随机化
单击 以随机化种子值。

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