阵列修改器的“变换”卷展栏

阵列修改器的“变换”卷展栏提供了用于调整克隆在阵列中的位置、旋转和缩放的控件。

界面

位置

以下变换选项仅在分布方法设置为“栅格”时可用。请参见阵列修改器的“分布”卷展栏(栅格)

位置方法
设置位置变换方法。
全部
将每个克隆移动在 X、Y 和/或 Z 参数中指定的距离。所有克隆都从第一个克隆向外移动。
在以下示例中,X、Y 和 Z 参数设置为 10。
增量
将每个克隆连续移动在 X、Y 和/或 Z 参数中指定的距离。
在以下示例中,X、Y 和 Z 参数设置为 3。
按轴
将每行移动在 X、Y 和/或 Z 参数中指定的距离。
在以下示例中,X、Y 和 Z 参数设置为 10。
按轴增量
在指定的轴上逐行连续复合偏移。
在以下示例中,X、Y 和 Z 参数设置为 10。
交替
每隔一行移动在 X、Y 和/或 Z 参数中指定的距离。
在以下示例中,X 参数设置为 10。
Z 与 Y 变换
将 Y 轴上每一个连续的行在 Z 轴上移动给定的量。这对于创建楼梯或体育场座位很有用。
在以下示例中,Z 参数设置为 10。
X、Y、Z
使用指定的值沿 X、Y 或 Z 轴修改阵列的局部位置。值以显示单位表示。

局部旋转

局部旋转方法
设置局部旋转变换方法。
全部(默认)
将每个克隆围绕其局部轴旋转由 X、Y、Z 参数指定的量。
增量
将每个克隆围绕其局部轴旋转由 X、Y、Z 参数指定的额外增量。
按轴
此选项仅在分布方法设置为栅格时可用。
将每行中的所有克隆旋转由 X、Y、Z 参数指定的额外增量。
按轴增量
此选项仅在分布方法设置为栅格时可用。
将每行中的所有克隆旋转由 X、Y、Z 参数指定的增量。
交替
每隔一个克隆旋转由 X、Y、Z 参数指定的量。
随机增量
将所有克隆旋转由 X、Y、Z 参数指定的量的倍数。
提示: 在使用栅格分布方法时,可以使用此参数创建非周期性平铺或最大限度减少平铺元素中的重复。
渐进式
此选项仅在分布方法设置为径向样条线叶序时可用。
渐进式旋转克隆。例如,“局部旋转 X”值为 360 度时,第一个克隆不会旋转,但最后一个克隆会旋转 360 度。介于两者之间的每个克隆都在 0-360 度之间以递增方式旋转。在以下示例中,“局部旋转 Y”设定为 -72.0,创建一组倒塌的多米诺骨牌。

X、Y、Z
使用指定的值修改阵列围绕 X、Y 和/或 Z 轴的局部旋转(以度为单位)。值以显示单位表示。

世界旋转

以下变换选项仅在分布方法设置为栅格时可用。

世界旋转方法
设置世界旋转变换方法。
全部
基于原始对象的轴将所有克隆旋转由 X、Y、Z 参数指定的量。
增量
基于原始对象的轴将所有克隆旋转一个增量。
按轴
沿指定轴旋转一行中的所有克隆。
按轴增量
沿指定轴以增量方式旋转一行中的所有克隆。
弯曲
沿指定轴以增量方式旋转一行中的所有克隆,从而弯曲。
X、Y、Z
使用指定的值修改阵列围绕 X、Y 和/或 Z 轴的世界旋转(以度为单位)。值以显示单位表示。

缩放

缩放方法
设置世界缩放变换方法。
全部(默认)
所有克隆都在指定轴上缩放。
增量
所有克隆都在指定轴上以增量方式缩放。
按环
此选项仅在分布方法设置为径向时可用。
一个环中的所有克隆都在指定轴上以增量方式缩放。
按行
此选项仅在分布方法设置为径向时可用。
一行中的所有克隆都在指定轴上以增量方式缩放。
按轴
此选项仅在分布方法设置为栅格时可用。
一行中的所有克隆都在指定轴上以增量方式缩放。
交替
此选项仅在分布方法设置为栅格时可用。
每隔一个克隆按指定量进行缩放。
渐进式
此选项仅在分布方法设置为径向样条线叶序时可用。
渐进式缩放克隆。例如,“缩放 X”值为 200% 时,第一个克隆的缩放比例不会增加,但最后一个克隆的缩放比例是 200%。介于两者之间的每个克隆都在 0-200% 之间以递增方式缩放。
X、Y、Z
使用指定的百分比修改阵列沿 X、Y 和/或 Z 轴的比例。值以显示单位表示。
缩放链接 ()
启用后,所有三个轴都由 X 轴参数控制,从而更容易统一地操纵克隆。

径向

以下变换选项仅在分布方法设置为径向时可用。

轴向
沿阵列的主轴连续移动每个克隆。这可用于生成螺旋线阵列。在以下示例中,“轴向”设置为 40。
径向
沿阵列的主轴连续和切向(朝向/背离)移动每个克隆。这可用于生成螺旋阵列。在以下示例中,“径向”设置为 0.3。
沿阵列的主轴连续移动每个克隆环。
径向相位
通过相位,沿主轴旋转每个环,其中值 1.0 等于旋转 360 度。
环相位
通过相位,沿主轴以交替模式旋转每个环,其中值 1.0 等于旋转 360 度。

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