“栅格”分布方法会在 1D、2D 或 3D 栅格图案中创建一组统一的克隆。
“修改”面板 > 进行选择 >“修改器列表”>“对象空间修改器”>“阵列”>“分布”卷展栏 >“栅格”
- 默认菜单：进行选择 >“修改器”菜单 >“参数化变形器”>“阵列”>“分布”卷展栏 >“栅格”
“栅格”分布方法会在 1D、2D 或 3D 栅格图案中创建一组统一的克隆。以下示例使用“栅格”分布方法创建一组椅子。有关详细的工作流示例，请参见使用阵列修改器创建一组椅子。
界面
- 布局方法
- 用于选择克隆在视口中的排列方式。
注： 显示在“布局方法”下拉列表下方的选项会根据您的选择内容动态更新。
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- 总尺寸
- 创建在“计数 X”、“计数 Y”和“计数 Z”参数中定义的克隆数量，并将其放置在指定的“宽度”、“长度”和“高度”内。
- 相对偏移
- （默认）创建在“计数 X”、“计数 Y”和“计数 Z”参数中定义的克隆数量，并相对于源对象的边界框放置它们。
- 当 X、Y 或 Z 轴的“偏移”设置为 1.0（默认值）时，每个克隆将彼此相邻放置。
注： 如果“偏移”值小于 1.0，则可能导致克隆重叠。如果“偏移”值大于 1.0，会导致克隆之间出现间距。
- 填充
- 创建填充指定“宽度”、“长度”或“高度”所需的克隆数量。在阵列的末尾插入或移除新克隆。
提示： 您可以使用“偏移”和“间距”参数调整适合填充到指定“宽度”、“长度”或“高度”内的克隆数量。
- 强度
- 设置克隆相对于阵列原点的位置。默认值为 100%。
- 中心
- 重新定位阵列，使其以原始对象的原点为中心。默认情况下，此参数处于禁用状态。
- 动态间距
- 仅在使用“填充”布局方法时可用。
- 在第一个和最后一个克隆之间插入新克隆，而不是将克隆附加到阵列末端。
- 计数 X、计数 Y、计数 Z
- 设置沿局部 X、Y 或 Z 轴放置的克隆数。
- 宽度、长度、高度
- 设置固定的“宽度”、“长度”和“高度”，用于在其中放置克隆。
- 偏移
- 以相对克隆尺寸设置到 X、Y 或 Z 轴上下一个克隆的距离。默认值为 1.0。
- 间距
- 设置 X、Y 或 Z 轴上每个克隆之间的距离。间距以显示单位表示。
提示： “间距”参数可以重现“偏移”参数的效果，但在需要某个特定的数值距离时特别有用。
- 按元素阵列
- 如果源对象具有多个元素，并且启用了此选项，则可以从以下“按元素阵列”方法中进行选择，以控制克隆的排列。
- 随机：每个元素随机用作潜在克隆。在以下示例中，使用 5（计数 X）x 5（计数 Y）x 1（计数 Z）。
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提示： 此选项可用于创建对象集合，如书架中的书或墙中的砖。 - 有序：元素根据选定方向（X、Y、Z）或克隆 ID 按顺序排列。在以下示例中，茶壶的元素沿 X 轴按顺序显示，在阵列循环切换所有四个元素后重复。将使用 10（计数 X）x 5（计数 Y）x 1（计数 Z）栅格。
- 第一个、中间、最后一个：第一个克隆和最后一个克隆保持不变，其余克隆随机排列。在以下示例中，元素 1 是第一个克隆，元素 2 是最后一个克隆。这些行中的其他克隆沿 X 轴排列。将使用 5（计数 X）x 5（计数 Y）x 1（计数 Z）。
注： “第一个、中间、最后一个”排列要求对象中至少有四个元素才能提供预期的结果。
- 居中方式
- 启用“按元素阵列”时，“居中方式”也将启用。
- 将 X、Y 和/或 Z 轴上每个克隆的轴设置为其中心。可以同时选择多个轴。
- 当创建由要用作克隆的元素组成的阵列时，这使得沿轴布置各个元素变得容易，这样它们就不需要位于相对于轴的同一位置。禁用后，每个元素使用其相对于源对象轴点的位置。
- 紧缩元素
- 仅在使用“填充”布局方法时可用。
- 沿 X 轴紧缩克隆。启用后，第一个克隆将移动，使其最小 X 轴位置与源对象的轴对齐。
提示： 如果元素具有不同的宽度，这将非常有用，因为它们放置在尽可能靠近的位置。
- 种子
- 为选择要用作克隆的元素设置随机数种子。
- 种子随机化
- 单击
以随机化种子值。