阵列修改器分布方法：径向

径向分布方法会以与 X、Y 或 Z 轴对齐的环形阵列方式创建克隆。

界面

X、Y、Z
在对象空间中沿选定轴确定阵列方向。
强度
设置克隆相对于阵列原点的位置。默认值为 100%。
方向
设置克隆相对于原始对象方向的方向。默认值为 100%。倍增为 100% 时，每个克隆的方向都相对于围绕阵列中心的旋转方向。倍增为 0.0% 时，每个克隆都采用原始对象的方向。介于 0.0% 和 100% 之间的值将每个克隆设置为阵列中旋转的百分比。
中心
重新定位阵列，使其以原始对象的原点为中心。默认情况下，此参数处于禁用状态。
计数
设置阵列中的克隆数量。
半径
设置阵列的半径（以显示单位表示）。
绝对开始/结束位置
启用后，第一个克隆将定位在指定的起始角度，最后一个克隆将定位在指定的结束角度，其余克隆在两者之间均匀分布。
默认情况下该选项处于禁用状态。
起始角度
设置阵列的起始位置。默认值为 0.0，默认位置为 12 点钟位置。
结束角度
使用最后一个克隆相对于 12 点钟位置的位置，设置阵列的结束位置。
行
设置阵列中的克隆行数。每个附加行都放置在指定的正轴上。
偏移
设置每行之间的距离（以相对克隆尺寸表示）。默认值为 1.0。
间距
设置每行之间的距离。间距以显示单位表示。
交错
将每个连续行旋转克隆宽度的一半。
注： 仅当阵列中有多个行时，此参数才可用。
环
设置相对于第一个环的克隆同心环的数量。
偏移
设置每个环之间的距离（以相对克隆尺寸表示）。默认值为 1.0。
间距
设置每个环之间的距离。“间距”以显示单位表示。
等距
为每个连续环添加尽可能多的克隆，从而填充由“偏移”和“间距”参数定义的区域。
注： 仅当阵列中有多个环时，“等距”才可用。
交错
偏移每个连续环，从而创建交错的外观。
注： 每个克隆的确切位置取决于环数，不能保证均匀重叠。
按元素阵列
如果源对象具有多个元素，并且启用了此选项，则可以从以下“按元素阵列”方法中进行选择，以控制克隆的排列。
  • 随机：每个元素随机用作潜在克隆。在以下示例中，使用的参数是“计数”：8 和“半径”：75.0。
  • 有序：元素根据选定方向（X、Y、Z）或克隆 ID 按顺序排列。在以下示例中，茶壶的元素沿 X 轴按顺序显示，在阵列循环切换所有四个元素后重复。使用的其他参数是“计数”：8 和“半径”：75.0。
  • 第一个、中间、最后一个：第一个克隆和最后一个克隆保持不变，其余克隆随机排列。在以下示例中，元素 1 是第一个克隆，元素 2 是最后一个克隆。使用的其他参数是“计数”：8 和“半径”：75.0。
    注： “第一个、中间、最后一个”排列要求对象中至少有四个元素才能提供预期的结果。
居中方式
启用“按元素阵列”时，“居中方式”也将启用。
将 X、Y 和/或 Z 轴上每个克隆的轴设置为其中心。可以同时选择多个轴。
当创建由要用作克隆的元素组成的阵列时，这使得沿轴布置各个元素变得容易，这样它们就不需要位于相对于轴的同一位置。禁用后，每个元素使用其相对于源对象轴点的位置。
种子
为选择要用作克隆的元素设置随机数种子。
种子随机化
单击 以随机化种子值。

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